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X射線熒光分析的基礎(chǔ)和重要的儀器性能
更新時(shí)間：2021-05-21 點(diǎn)擊次數(shù)：2088次
在過(guò)去，X射線熒光分析（XRF）主要用于地質(zhì)學(xué)。如今，它已成為工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室的關(guān)鍵技術(shù)。這種方法非常通用：它可以檢測(cè)從鈉到鈾的所有相關(guān)化學(xué)元素
XRF通常用于材料分析，即確定樣品中給定物質(zhì)的含量，如測(cè)量珠寶中的黃金含量或根據(jù)《有害物質(zhì)限制》（RoHS）指令檢測(cè)日常物品中的有害物質(zhì)。此外，可以使用XRF測(cè)量鍍層的厚度：它快速、環(huán)保且無(wú)損。
這就是測(cè)量是如何進(jìn)行的
當(dāng)X射線設(shè)備開始測(cè)量時(shí)，X射線管會(huì)發(fā)出高能輻射，這也被稱為‘初級(jí)’輻射。當(dāng)這些X射線擊中樣品中的一個(gè)原子時(shí)，它們會(huì)增加能量–即它們“激發(fā)”原子 - 使原子向其原子核附近發(fā)射電子，這個(gè)過(guò)程被稱為“電離”。由于這種狀態(tài)是不穩(wěn)定的，一個(gè)來(lái)自更高電子層的電子移動(dòng)來(lái)填充空隙，從而發(fā)射出“熒光”輻射。
這種二次輻射的能量水平類似指紋一樣：它是每個(gè)元素的特征。探測(cè)器接收熒光并將信號(hào)數(shù)字化。在信號(hào)經(jīng)過(guò)處理后，設(shè)備產(chǎn)生一個(gè)光譜：檢測(cè)到的光子的能級(jí)在x軸上繪制，其頻率（計(jì)數(shù)率）在y軸上繪制。樣品中的元素可以從光譜中波峰的位置（x軸方向）來(lái)識(shí)別。這些峰的水平（y軸方向）提供了有關(guān)元素濃度的信息。
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